光刻制程越小越好。

工艺制程的指标是纳米，表示光刻和刻蚀的精度。纳米数越低，说明就可以把硅片上的晶体管做的越小。这样，同样面积的硅片，就可以刻出更多的晶体管。从而实现更高的性能，或者更低的功耗。