光刻技术涉及化学变化。

光刻技术是化学、物理变化都有。

集成电路制造中利用光学－化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级，已从常规光学技术发展到应用电子束、X射线、微离子束、激光等新技术使用波长已从4000埃扩展到0.1埃数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。