干法蚀刻用三氯化硼，主要用于半导体器件生产所用的扩散、离子注人、干法蚀刻等工艺。分子式： BC13 。相对分子质量： 117.1691 （按 2007 年国际相对原子质量计算）。其主要内容是工业用，注人，蚀刻，117.1691，电子，BC13，制得，三氯化硼，气体。
干法蚀刻用到什么气体
原创 | 2023-01-01 12:02:42 |浏览：1.6万
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