7nn是光刻工艺。

N7+工艺便是采用EUV（极紫外光刻）的7nm制造工艺，根据台积电的说法，7nm EUV相比此前的7nm（N7）工艺，把晶体管密度提升了15%~20%，同时也顺利降低了芯片功耗。

台积电表示，7nm EUV也是有史以来量产最快的芯片制造工艺，在今年第二季度开始量产的时候，产能就已经达到量产了一年多的7nm工艺的水平。相比至今没有传出代工芯片量产消息的三星7nm EUV，台积电这次走在了前面。