NIL（纳米压印光刻）技术是在一个特殊的“印章”上，先刻上纳米电路图案，然后再将电路图案“压印”在晶圆上，就像盖章一样。目前，NIL被当作一种刻画32nm以下工艺芯片电路的替代方法。由于NIL没有镜头，相比EUV要更加经济。

NIL技术最早由华裔科学家周郁（Stephen Chou）教授在1995年首次提出纳米压印概念。由于NIL采用的是机械复制，可以排除光学衍射的影响，理论上可以实现比光刻更高的分辨率，而且它的成本比EUV要低很多。