区别是原理不同，膜的粘附性及结合的效果也不同，食用的材料也不同。

蒸发镀利用高能电子束轰击靶材，使材料表面产生很高的温度，由固态直接升华到气态沉淀到工件表面所形成的薄膜，主要运用在光学方面。

溅射镀是高能离子轰击靶材，使靶材表面原子飞翼出来的过程称溅射。

蒸发镀膜的粘性较差，但膜的均匀性好溅射镀膜溅射能量大和基底的粘附性也好，但是膜会有颗粒感，就是均匀性稍差。