真空镀铜原理

真空镀铜：一般电解电镀习惯以硫酸铜溶液来进行离子交换，因二价之铜离子较活泼，故极易让活性镍吸附，此时与镍离子之间所形成之凡得瓦尔力为最大，如再以电流为媒介，更可加速其离子交换之速度。

真空镀铜原理

真空电镀是一种物理沉积现象，就是在真空状态注入ya气，ya气撞击靶材，靶材分离成分子被导电货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。真空电镀的优点就是，做出来的产品金属感强，亮度高，而相对其他的镀膜做法来说，成本较低，对环境的污染小，现在被各行各业广泛使用。